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鍍膜線解決方案

Solution
芯片EMI封裝方案 Chip EMI package
客戶(hù)群體

半導(dǎo)體及相關(guān)配套生產(chǎn)廠商、PVD鍍膜加工企業(yè)

項(xiàng)目方案

為企業(yè)提供PVD鍍膜設(shè)備和鍍膜工藝技術(shù)

針對(duì)半導(dǎo)體行業(yè)產(chǎn)品的特點(diǎn)和不斷增長(zhǎng)的客戶(hù)需求,不斷開(kāi)發(fā)出多種設(shè)備技術(shù)和鍍膜工藝

Solutions and advantages.

解決方案及優(yōu)勢(shì)

隨著半導(dǎo)體設(shè)計(jì)的復(fù)雜性和集成度隨著技術(shù)的發(fā)展而增長(zhǎng),新的封裝解決方案已成為推動(dòng)因素。最近,智能電話越來(lái)越多地安裝在設(shè)備中以改善其功能的無(wú)線系統(tǒng)。另一方面,嵌入式電路的時(shí)鐘頻率和數(shù)據(jù)傳輸速度增加,這使得易于產(chǎn)生在無(wú)線系統(tǒng)中使用的電磁噪聲。傳統(tǒng)上,使用板級(jí)“ Can shield”方法來(lái)阻擋噪聲,這使其難以小型化和薄型化。為了解決這個(gè)問(wèn)題,出現(xiàn)了一種屏蔽半導(dǎo)體封裝本身的新技術(shù)。

封裝級(jí)的電磁屏蔽使PCB板更小更薄。另外,封裝的半導(dǎo)體組件具有可以將它們放置在系統(tǒng)板上任何位置的優(yōu)點(diǎn)。匯成真空已開(kāi)發(fā)出可以形成高質(zhì)量電磁屏蔽膜的磁控濺射連續(xù)鍍膜生產(chǎn)線。

◎ 臺(tái)階覆蓋
通過(guò)調(diào)整托盤(pán)旋轉(zhuǎn)角度和濺射角度,鍍膜生產(chǎn)線可以形成具有50%或更高階躍覆蓋率的屏蔽。
通過(guò)沉積具有高階梯覆蓋率的屏蔽層,可以最大程度地提高目標(biāo)效率,并通過(guò)縮短沉積過(guò)程時(shí)間來(lái)大大增加生產(chǎn)時(shí)間。

◎ 全自動(dòng)化系統(tǒng)
鍍膜生產(chǎn)線通過(guò)自動(dòng)系統(tǒng)實(shí)施針對(duì)生產(chǎn)過(guò)程進(jìn)行了優(yōu)化,該系統(tǒng)易于拆卸,克服了常規(guī)磁帶處理的局限性。

◎ 高通量
鍍膜生產(chǎn)線只要不影響臺(tái)階覆蓋范圍,就可以通過(guò)最小化半導(dǎo)體封裝之間的間隙來(lái)最大程度地提高產(chǎn)量。
另外,最大程度地縮短了節(jié)拍時(shí)間,從而將每小時(shí)單位產(chǎn)量(UPH)提高了兩倍多,是傳統(tǒng)濺射設(shè)備的兩倍。

◎ 附著力
鍍膜生產(chǎn)線通過(guò)采用等離子處理的表面改性處理,大大提高了半導(dǎo)體封裝成型材料與屏蔽層之間的附著力,從物理上講,通過(guò)改善半導(dǎo)體封裝表面的粗糙度來(lái)增加表面積。
另外,化學(xué)上,由于活化氧原子的增加,離子濃度的減少和碳元素的減少,表面能增加。
表面能的變化可以通過(guò)接觸角來(lái)測(cè)量。

recommended equipment.

推薦設(shè)備

Project site.

項(xiàng)目現(xiàn)場(chǎng)

鍍膜現(xiàn)場(chǎng)

鍍膜現(xiàn)場(chǎng)

鍍膜現(xiàn)場(chǎng)

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