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HCEB系列

電子束蒸發(fā)

高精密光學(xué)鍍膜機(jī)

High precision E-beam evaporation coating machine
真空應(yīng)用解決方案提供商
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HIGH PRECISION E-BEAM EVAPORATION COATING MACHINE 高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)

      在玻璃/PC/PMMA基片上形成高精度光學(xué)多層薄膜的精密真空鍍膜機(jī);將滿足客戶需求的多種元件組合在一起,可以形成品質(zhì)更加優(yōu)良的薄膜;基片傘架采用中心旋轉(zhuǎn)方式(公轉(zhuǎn)),減少產(chǎn)生振動(dòng)和顆粒,使基片能夠穩(wěn)定旋轉(zhuǎn)。

      采用坩堝上沒有極片的電子束加熱方式作為蒸發(fā)源,可以穩(wěn)定地形成多層膜;采用本公司獨(dú)有的比率控制法和多點(diǎn)在線監(jiān)控,可以形成高精度且穩(wěn)定的光學(xué)多層膜;可利用操作性良好的升降機(jī)來取出基片傘架。

      使用均勻分布的高離子電流密度的離子源,搭載雙電子槍,多點(diǎn)和環(huán)型坩堝可鍍100層以上,利用自動(dòng)蒸鍍控制系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)蒸鍍過程,工件架可選擇鐘罩式或行星式。

AR 膜(基材玻璃透過率>91.5%):
■  420-680nm波段,單面平均透過率>95%,反射率小于0.5(平均值)% ;
■  雙面平均透過率>98%,反射率小于0.5(平均值)%;

AS/AF膜測(cè)試標(biāo)準(zhǔn):
■   初始接觸角范圍為 115±5°;
■   鋼絲絨耐摩擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn):用 0000#鋼絲絨,面積為 10*10mm,行程 40 次/分,負(fù)載1Kg,5000 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
■   橡皮擦測(cè)試標(biāo)準(zhǔn): 直徑 6mm 橡皮擦,行程 25 次/分,負(fù)載1Kg, 2500 次往返摩擦后,接觸角大于 100°;
備注:測(cè)試樣片玻璃需為經(jīng)過精密拋光過的觸摸屏蓋板專用玻璃,表面光潔。


優(yōu)勢(shì):

?提高沉積速率以實(shí)現(xiàn)更高產(chǎn)量
?在半導(dǎo)體,光電和光子學(xué)領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)高精度工藝
?堅(jiān)固耐用且易于維護(hù)

Product Advantage.

產(chǎn)品特點(diǎn)
HCEB系列高精密電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)包括以下關(guān)鍵功能:
  • 采用大口徑高輸出離子源, 可實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜

  • 采用可精確控制的光學(xué)膜厚計(jì)、 多點(diǎn)監(jiān)測(cè)交換機(jī)構(gòu)

  • 渦輪分子泵可以在無油的清潔環(huán)境中進(jìn)行成膜

  • 針對(duì)排氣和工藝過程中產(chǎn)生的微粒采取了措施

  • 搭載有運(yùn)行管理系統(tǒng), 可用于實(shí)時(shí)狀態(tài)監(jiān)測(cè)和損失分析等

  • 采用in-situ監(jiān)測(cè)器能夠提高成品率、縮短調(diào)整時(shí)間

規(guī)格
型號(hào) HCEB-1100
腔體尺寸 Φ1100 x H1520
裝載量 0.8 m2
結(jié)構(gòu) 立式前開門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,最高350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 / Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無氧銅坩鍋,阻抗式蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1560nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEB-1350
腔體尺寸 Φ1350 x H1610
裝載量 1.1 m2
結(jié)構(gòu) 立式前開門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,最高350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 / Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無氧銅坩鍋,阻抗式蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1560nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEB-1550
腔體尺寸 Φ1550 x H1810
裝載量 1.5 m2
結(jié)構(gòu) 立式前開門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,最高350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 / Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無氧銅坩鍋,阻抗式蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1560nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

應(yīng)用案例
規(guī)格
型號(hào) HCEB-1800
腔體尺寸 Φ1800 x H1850
裝載量 2.3 m2
結(jié)構(gòu) 立式前開門,SUS304不銹鋼
性能
轉(zhuǎn)速 10~30RPM(可變)
抽速 大氣壓至1.5×10-3Pa≤30min
極限真空度 8.0×10-5Pa
膜料 TiO2,Ti3O5,H4,ZrO2,ZnS,Al2O3,MgF2,SiO2,Au,Ag,Cu,Al,Ti,In,Sn...
主要配置
夾具系統(tǒng) 中心上旋轉(zhuǎn)傘架,單體或分體
加熱系統(tǒng) 鹵素?zé)?/ 鎧裝加熱器,最高350℃
排氣系統(tǒng) 低真空泵組 + 高真空泵組 + 低溫泵 / Polycold
真空控制系統(tǒng) 真空控制器、潘寧及皮拉尼真空計(jì)
鍍膜系統(tǒng) 電子槍,無氧銅坩鍋,阻抗式蒸發(fā)源,射頻/考夫曼型/霍爾型離子源
充氣系統(tǒng) MFC或APC自動(dòng)壓強(qiáng)控制儀
膜厚控制儀 晶控或光控
控制系統(tǒng) PC+PLC
應(yīng)用
光學(xué)薄膜應(yīng)用 UV/IR截止濾光片、裝飾膜、帶通濾光片、RGB濾光片、光觸媒、HR膜等
適用波長(zhǎng) 300nm~1560nm
注:可客制化(數(shù)據(jù)僅供參考)

Application cases.

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